Teknek推出標簽印刷業最先進接觸式清潔系統
2009-03-06 11:10 來源：TEKNEK 責編：任蓓
近日，接觸式清潔科技全球領導者Teknek，推出標簽印刷行業最先進接觸式清潔系統。經過五年研發，Nanocleen 宣告了一項具有劃時代的先進污染及靜電控制接觸式清潔技術。
Teknek 從20年前發明接觸式清潔以來，一直在研發上保持領先。Tenkek清潔機已有15, 500臺裝設在全世界用戶廠內，幫助用戶增加生產效益、減少廢品及削減停機時間。推估Teknek科技已為用戶節省超過20億美金。
Nanocleen 系統的核心是一支特殊配方制成的滾輪及粘塵紙卷。Nanocleen提供了一些超越傳統接觸式清潔系統的優點，包括：其特殊聚合材質滾輪可清除更微小異物 – 小至25nm(納米)。當前世界上所有其它的清潔設備供應商只能處理到微米級。
Nanocleen超高性能，可比其它接觸式清潔系統多清除25~50%異物量。除了清除污染外，這種滾輪也可散除靜電。其靜電消除性能，相較于傳統接觸式清潔系統，可得滿分10分。其滾輪及粘塵紙卷100% 無硅。傳統滾輪及粘塵紙卷皆含有硅成分，對生產線有污染風險。
Nanocleen系統可安裝在舊型或新型Teknek清潔機以及其它制造廠的清潔機上 (使用選購之升級套件，毋需重新投資硬件) 。
Teknek總經理史蒂芬?米奇說：“Teknek對Nanocleen的新技術已投入巨大的研發資源于以及廣泛用戶處應用測試。”他補充：“Nanocleen在未來的幾年必將成為接觸式清潔的標準。市場上無可與其匹敵者，由其提供的空前高水平的污染清除及靜電消除性能，在生產效益改善、廢品減量方面，將為用戶提供顯著的競爭優勢。”
Teknek 從20年前發明接觸式清潔以來，一直在研發上保持領先。Tenkek清潔機已有15, 500臺裝設在全世界用戶廠內，幫助用戶增加生產效益、減少廢品及削減停機時間。推估Teknek科技已為用戶節省超過20億美金。
Nanocleen 系統的核心是一支特殊配方制成的滾輪及粘塵紙卷。Nanocleen提供了一些超越傳統接觸式清潔系統的優點，包括：其特殊聚合材質滾輪可清除更微小異物 – 小至25nm(納米)。當前世界上所有其它的清潔設備供應商只能處理到微米級。
Nanocleen超高性能，可比其它接觸式清潔系統多清除25~50%異物量。除了清除污染外，這種滾輪也可散除靜電。其靜電消除性能，相較于傳統接觸式清潔系統，可得滿分10分。其滾輪及粘塵紙卷100% 無硅。傳統滾輪及粘塵紙卷皆含有硅成分，對生產線有污染風險。
Nanocleen系統可安裝在舊型或新型Teknek清潔機以及其它制造廠的清潔機上 (使用選購之升級套件，毋需重新投資硬件) 。
Teknek總經理史蒂芬?米奇說：“Teknek對Nanocleen的新技術已投入巨大的研發資源于以及廣泛用戶處應用測試。”他補充：“Nanocleen在未來的幾年必將成為接觸式清潔的標準。市場上無可與其匹敵者，由其提供的空前高水平的污染清除及靜電消除性能，在生產效益改善、廢品減量方面，將為用戶提供顯著的競爭優勢。”
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